Make your video stand out in seconds. Adjust voice, language, style, and audience exactly how you want!
Summary
PECVD, plazma destekli kimyasal buhar biriktirme yöntemidir. Düşük sıcaklıklarda ince filmler, özellikle silisyum dioksit ve silisyum nitrit, bu yöntemle üretilir. Süreç, gazların plazma oluşturmasıyla başlar ve ince film, altlık üzerine kimyasal reaksiyonla birikir. Temizlik ve gazların çıkarılması sonrası, sistem bir sonraki kullanıma hazırlanır.